Japan Machinery Company предлагает передовое научно-исследовательское оборудование Японских производителей. В частности, современные комплексы вакуумного технологического оборудования для эпитаксиального выращивания полупроводниковых гетероструктур методом молекулярно-лучевой эпитаксии.

По требованию Заказчика установки могут изготавливаться в нестандартной конфигурации. Технологический тренинг персонала Заказчика включен в базовое коммерческое предложение. В качестве дополнительной услуги поставка оборудования может сопровождаться расширенным технологическим тренингом, включающим разработку и постановку клиент-ориентированных техпроцессов.

Молекулярно-лучевая эпитаксия как технологический процесс проходит в сверхвысоковакуумных камерах и хорошо сочетается с широким спектром методик исследования и контроля, таких, как ВИМС (вторичная ионная масс-спектроскопия), ДМЭ (дифракция медленных электронов), ДБЭ (дифракция быстрых электронов) ОЭС (оже- электронная спектроскопия), эллипсометрия, РФЭС. Глубокий вакуум позволяет осуществлять пред-эпитаксиальную обработку поверхности подложек с использованием ионно-лучевого, ионно-плазменного и лазерного травления.

К большому преимуществу МЛЭ относится также возможность использования ряда прецизионных методов контроля за процессом in situ во время роста слоя. Такие методы, как масс-спектрометрии атмосферы в реакторе, контроль за скоростью роста и составом растущего слоя возможны только в условиях высокого вакуума. Развитая система контроля и управления процессом обеспечивают полную автоматизацию и компьютерное управление ростом слоев.